中国最先进的光刻机当属中微公司的28纳米光刻机。中微公司是中国光刻机领域的领军企业，其研发的光刻机在技术水平和性能上已经达到了国际先进水平。
中微公司的28纳米光刻机主要用于半导体制造，可以在硅片上精确地制造出微小的电路图案。这种光刻机在分辨率、速度和稳定性等方面都取得了显著的进步，为我国半导体产业的发展提供了重要的技术支持。
值得一提的是，中微公司还在积极研发更先进的光刻机，如14纳米、7纳米等，以满足我国半导体产业对高端光刻技术的需求。随着我国光刻机技术的不断突破，有望在半导体领域实现自主可控，减少对外部技术的依赖。
